矽光子熱門股掀專利侵權戰!汎銓求償2億 光焱反駁:核心技術自研
【記者呂承哲/台北報導】半導體檢測與研發服務廠汎銓科技(6830)今(25)日宣布,已正式向智慧財產及商業法院提起訴訟,指控光焱科技(7728)涉及侵害其「光損偵測裝置」專利(I870008B),並請求損害賠償新台幣2億元。對此,光焱回應,目前尚未收到正式訴狀,強調公司產品皆為自主研發技術,將依法應對。
汎銓與光焱同為矽光子與共同封裝光學(CPO)檢測領域的重要業者,隨AI與高速運算需求升溫,相關檢測技術成為市場關注焦點。股價表現方面,汎銓今年以來大漲逾147%,今日收在431元;光焱同期亦上漲逾50%,收在830元,顯示市場對該領域高度期待。
汎銓表示,光焱相關設備及技術方案已涉及侵害其專利權,為維護長期投入研發所建立的技術優勢與產業競爭力,決定採取法律行動。公司指出,其專注於高階先進製程材料分析、AI與矽光子檢測等領域,業務涵蓋台灣、美國、日本等主要半導體市場,相關專利具全球競爭價值。
汎銓強調,半導體產業為台灣關鍵產業,若核心技術專利遭侵害,恐引發技術外流風險,影響產業競爭力。因此除求償外,也已請求法院裁定停止相關侵權行為,以確保智慧財產權獲得充分保障,並維護產業發展基礎。
另一方面,光焱表示,目前僅從公開資訊得知相關訊息,尚未收到法院正式文件。公司指出,深耕光學與光電子檢測領域已逾16年,一向重視智慧財產權,所有核心產品均為團隊自主研發,並無使用他方技術之必要,目前亦有多項專利持續申請中。
針對後續發展,光焱已委請律師團隊處理,待收到訴狀後將依法提出答辯。公司並評估,依目前掌握情況,該訴訟對財務與營運影響有限,現階段業務與出貨均維持正常運作,將持續與客戶保持合作關係。
隨AI應用推動資料傳輸速度與頻寬需求快速提升,矽光子與CPO技術重要性持續升高,相關檢測與量測能力亦成為產業關鍵。此次專利爭議,反映出半導體先進技術競爭已從製程延伸至檢測與關鍵設備領域,未來發展仍待觀察司法結果與雙方後續動向。
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