2大對手卡關！傳台積電首套High-NA EUV曝光機提早引進 還低於市價
【記者呂承哲／台北報導】隨著先進製程進入埃米時代，荷蘭半導體設備商艾司摩爾（ASML）的高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機成為關鍵，英特爾目前已經取得全球首套設備，台積電業務開發資深副總裁張曉強先前聲稱，雖然他很喜歡High-NA EUV曝光機，但是太貴了，他認為台積電研發團隊會持續專注在新一代EUV應用，並選擇最合適的製程節點來使用。不過，有消息傳出，台積電預計在9月底引進High-NA EUV曝光機，較先前猜測的年底更早。
綜合媒體消息指出，台積電首套High-NA EUV曝光機買價遠低於定價，根據先前ASML對外聲稱的價格為3.8 億美元（約為新台幣120億元），足足比前一代EUV曝光機價格1.8億美元高出許多。ASML High NA EUV產品管理副總裁Greet Storms則是在上週SEMICON Taiwan 2024分享最新技術，指出透過採用最新光學元件，將數值孔徑從0.33提升至0.55，以提供更高成像解析，臨界尺寸將達到8nm，讓晶片製造商可以在同樣單位面積的晶片上，實現較現今設備高出2.9倍電晶體密度，大幅降低成像缺陷。
此外，Greet Storms也在回應媒體提問，被問及有客戶說設備太貴了，她回稱，相信對方會議價，而且很多EUV客戶也都在買他們的產品。
雖然張曉強再先前聲稱，A16製程仍可以不使用High-NA EUV曝光機，但是台積電董事長魏哲家今年5月沒有出席在新竹的技術論壇，而是跑到歐洲拜訪荷蘭 ASML 總部，外界認為台積電就算技術優秀，但為了與對手保持競爭，仍會積極採購High-NA EUV曝光機，市場推測，台積電將在今年底收到首套High NA EUV曝光機，但是最新消息指出，台積電將提前在9月底收到設備，並且以遠低於市價的折扣取得。
市場推測，可能是英特爾陷入財務難題，搶先取得首套High NA EUV曝光機的優勢全無，三星目前在GAA製程良率仍有很大問題，遑論率先採用High-NA EUV曝光機，台積電目前坐擁市場、技術優勢，ASML雖然目前營收仍有大半可以靠出口成熟製程設備到中國維持，但是美國晶片禁令只會愈縮愈緊，相比之下，台積電是最有可能大手筆採購設備的廠商。對此，ASML並沒有回應評論。
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