隨著AI與高效能運算需求快速升溫，半導體製程正加速邁向更高精度與更複雜的材料應用。液空透過在台灣建立先進材料生產基地，不僅強化自身在全球供應鏈中的戰略地位，也進一步深化與台灣半導體產業的連結，搶攻下一波AI晶片成長契機。
該廠座落於全球最先進的半導體聚落核心，主要生產應用於原子層沉積（ALD）等先進製程的高精密分子材料。透過產線在地化，液空可更貼近客戶需求，提供穩定且高品質的材料供應，並強化供應鏈韌性與反應速度，有助於晶片製造商加速技術開發並順利導入量產。
液空指出，集團深耕台灣近40年，目前已建置54座服務半導體客戶的據點，服務範圍涵蓋超高純度工業氣體、先進電子材料、供應設備與分析服務。自2019年以來，累計投資已超過10億歐元（約新台幣370億元），逐步建立完整在地生態系，支撐台灣半導體產業持續成長。
液空集團執行委員會成員暨電子事業線負責人Armelle Levieux表示，此次新廠設於全球最活躍的半導體樞紐之一，展現液空支持AI等新興科技發展的決心。她指出，隨著產業快速擴張，先進材料將成為關鍵支撐，液空將透過提供高精度分子材料，深化與全球晶片大廠的合作關係，並持續強化在亞洲的布局。
Levieux強調，台中廠不僅是一座新廠，更代表液空三大核心意義。首先是技術領導地位的展現，液空具備大規模生產高精密蝕刻與沉積材料的能力，這些材料對AI等前沿應用至關重要；其次是深化與全球最先進半導體生態系的連結，透過落腳台灣，確保供應的安全性與即時性；第三則是營運與價值承諾，透過正確擴產、強化供應鏈韌性與安全管理，與客戶建立長期信任關係。
Levieux回顧，液空自1987年進入台灣以來，逐步建立完整供應鏈與研發體系，從氣體、材料到設備與分析服務皆已在地化，並與客戶形成深度合作的創新夥伴關係。未來不僅在台灣，也將持續陪伴客戶拓展至亞洲、美國與歐洲市場。
液空先進材料執行長Laurent Langellier則表示，台中廠象徵集團在台灣的新篇章，亦是整體戰略的具體實踐。他指出，該廠從建置至今累積超過15萬小時零事故紀錄，展現對安全的高度承諾，同時也實踐與客戶「策略性鄰近」的理念，透過在地生產即時支援全球最先進晶片製造需求。
Langellier進一步指出，液空的競爭優勢在於創新能力與快速導入量產的能力。新廠強化從研發、試產到大規模製造的「端到端」整合，讓創新材料能迅速導入客戶製程。該基地占地約2萬平方公尺，兼具規模與彈性，除可生產成熟製程所需材料，也具備開發與量產新一代分子的能力，特別是應用於3奈米以下先進節點。
Langellier強調，未來該廠仍保有擴充空間，可隨著市場需求持續擴展產能，為客戶創造更多價值。此次投資亦整合集團內部包括先進材料、研發、設備與在地氣體事業等資源，展現跨單位協作能力，並與合作夥伴共同推動技術突破。
點擊閱讀下一則新聞
