英特爾攜手聯電對抗台積電?

FundaAI調研報告指出,英特爾與聯電先前宣布的12奈米FinFET平台合作正加速推進,主要瞄準物聯網(IoT)與Wi-Fi無線通訊晶片市場。該計畫進展順利,聯電總經理王石先前也透露12奈米驗證進展符合預期,預計在今年(2026年)之內就會向客戶交付PDK(製程設計套件),並於2027年初進行設計定案(Tape-out),最快在2027年底於英特爾美國亞利桑那州的晶圓廠(Fab 52)正式步入商業量產,受到美台兩大廠強強聯手傳聞刺激,聯電ADR應聲大漲逾10%。

對長年固守成熟製程(28奈米以上)的聯電而言,先進製程昂貴的EUV(極紫外光)光刻設備動輒數億美元,是一場極度燒錢的軍備競賽。智璞產業趨勢研究所執行副總林偉智分析,聯電在多年前宣布放棄投資10奈米以下的先進製程,採取的是不與台積電去做軍備競賽的策略,這讓聯電對英特爾不具威脅性,成了最適合的現成「盟友」。

聯電原本的盤算是採取「輕資產」的跳級戰術,利用英特爾現成的先進廠房與設備,一塊錢設備費都不用出,就能直接跨入先進製程領域,藉此擺脫成熟製程的價格戰泥淖。而急需提振代工業務(Intel Foundry)的英特爾,也能藉由聯電數十年累積的「純代工」客製化服務經驗與客戶基礎,填補自身空窗,並大幅提升美國晶圓廠的產能利用率。

先進製程昂貴的EUV(極紫外光)光刻設備動輒數億美元。資料照
先進製程昂貴的EUV(極紫外光)光刻設備動輒數億美元。資料照

3奈米製程有變數 法人曝高層意見分歧

不過,市場傳出雙方有意將此模式全面複製到「3奈米製程空間」、打造效能對標台積電產品的傳聞,似乎言之過早。廣發證券海外電子產業首席分析師蒲得宇在最新發文中透露,與業內「極高層管理人員」對話後,對此合作案進度轉趨保守。

業內人士推測,3奈米與12奈米的技術難度與資本密集度完全不在同一量級。英特爾在歷經內部組織調整、並由前董事會成員陳立武(Lip-Bu Tan)回歸協助代工策略轉型後,雖然積極網羅前SK海力士執行長李錫熙等重量級人才強化先進封裝布局,但在晶圓前段先進製程的資源配置可能更為謹慎。

中經院科技政策評估研究中心副主任戴志言也指出,就算未來聯電跟英特爾前瞻製程開發完畢,台積電的領先地位在短期內可能依然難以被撼動,合作案關鍵仍在於能否轉成客戶的實質訂單。這場「美台二哥聯軍」究竟是真能如外媒所言攜手搶奪台積電份額,還是僅止於市場的一頭熱傳言?隨著頂級法人的實名質疑,已讓這場晶圓代工大戰的後續發展更增添了煙硝味。

CEO陳立武(Lip-Bu Tan)正在協助英特爾推動代工業務與整體策略轉型。莊宗達攝
CEO陳立武(Lip-Bu Tan)正在協助英特爾推動代工業務與整體策略轉型。莊宗達攝
作者簡介

高沛生

新聞編輯,關注政治新聞、社會議題、體育賽事與流行文化,重視深度與時效並行,期望透過報導促進公共討論,持續以文字記錄時代脈動。


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