恩萊特科技攜手全球夥伴 加速矽光子設計自動化與產業落地|壹蘋新聞網

恩萊特科技攜手全球夥伴 加速矽光子設計自動化與產業落地

記者 綜合報導
【記者呂承哲/台北報導】在AI運算與高速資料傳輸需求快速升溫下,矽光子技術成為全球半導體與通訊領域注目的新焦點。恩萊特科技12日於新竹舉辦「解鎖矽光子實戰鏈!設計 × 製程 × 封裝」技術論壇,吸引來自半導體、光通訊與系統整合等相關領域的百位專業人士與工程師參與。論壇聚焦光電設計自動化(EPDA)、製程整合與先進封裝,旨在推動矽光子從實驗室走向大規模製造。
左起為:Wave Photonics 共同創辦人暨執行長 James Lee、鴻海研究院半導體所所長暨國立陽明交通大學講座教授郭浩中、之光半導體共同創辦人暨技術長陳昇祐、西門子 EDA 應用工程師顧問 Vincent Lai、恩萊特科技總經理蘇正宇。恩萊特科技提供
左起為:Wave Photonics 共同創辦人暨執行長 James Lee、鴻海研究院半導體所所長暨國立陽明交通大學講座教授郭浩中、之光半導體共同創辦人暨技術長陳昇祐、西門子 EDA 應用工程師顧問 Vincent Lai、恩萊特科技總經理蘇正宇。恩萊特科技提供

論壇邀請多位來自國內外的重要技術專家,包括鴻海研究院半導體所所長暨交大講座教授郭浩中、之光半導體技術長陳昇祐、西門子EDA顧問Vincent Lai、駿河精機經理游智閔,以及英國Wave Photonics執行長James Lee,共同探討矽光子產業化的關鍵挑戰與應用實務。

恩萊特科技總經理蘇正宇表示,傳統電氣互連技術已難以應對高速與低延遲的資料傳輸需求,矽光子因具備高頻寬、低能耗等優勢,有望帶來數量級的效能提升。「推動設計自動化與製造鏈整合,是邁向矽光子量產的關鍵。恩萊特將持續整合設計平台與製程夥伴,協助客戶建立完整矽光子設計流程。」

恩萊特在論壇展示其代理的之光半導體開發之矽光子設計平台 PIC Studio,支援從電光共模模擬、封裝參數分析,到PDK佈局與DRC驗證等完整設計流程,已獲超過百家學研與商業單位採用。郭浩中指出:「這是目前最完整、最實用的光子設計軟體之一,可大幅縮短設計週期並提高設計效率。」

同時,恩萊特亦介紹與西門子EDA的合作,整合其電子設計工具L-Edit與Photonics解決方案,協助IC設計工程師在熟悉的設計環境中快速導入光子元件設計與驗證,加速團隊跨域轉型。針對製程良率與PDK建模優化,英國Wave Photonics則展示其AI驅動的PDK自動化技術,可快速因應製程變異、建立高良率元件庫,提升量產穩定性。

恩萊特表示,矽光子技術要邁向真正的產業落地,不僅需要設計與製程的整合,更需緊密結合晶圓代工、封測、系統端等完整產業鏈。未來將與台灣各大晶圓與系統業者擴大合作,建立可量產的EPDA工作流程,強化客戶在全球矽光市場的競爭力。隨著國際矽光子市場規模預估年年攀升,恩萊特將持續深化技術布局,搶占下一波數位基礎設施升級的重要契機。

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