台股開盤漲逾300點 台積電漲15元報2485
中東衝突升溫 國際油價走高市場承壓
【記者呂承哲／台北報導】美股在週一勞動節後恢復交易，隨著中東衝突升溫，國際油價走高逼近每桶百元，導致市場對於聯準會升息疑慮再度升溫，週二（8日）3大指數收黑，惟費城半導體指數收漲1.3%，輝達下跌2.01%，台積電ADR漲2.35%，ASML漲1.17%。台股週三（9日）開盤上漲逾300點，台積電漲15元、報2485元。
台股昨（8）日開高走低，以47,335.24點開出，早盤多頭一度發動攻勢，最高來到47,578.24點，午盤後追價買盤轉弱，隨著賣壓出籠，指數由紅翻黑，最低探至47,023.73點，終場下跌220.49點或0.47%，收47,105.78點，成交金額約9100億元。
權值股方面，台積電（2330）逆勢上漲10元或0.41%、收2470元，估計貢獻大盤約79點。三大法人合計賣超約100億元，其中外資買超約133億元、投信賣超約47億元、自營商賣超約185億元，呈現外資買超、投信及自營商站在賣方的格局。
High NA EUV戰線擴大！台積電、三星、英特爾同步搶進
荷蘭半導體微影設備大廠ASML攜手晶圓代工龍頭台積電，共同推動High NA EUV光罩由現行6吋升級至12吋，突破目前曝光需使用兩張6吋光罩拼接的限制，藉此提升晶圓廠生產力並降低晶片製造成本。雙方計畫2031年前建立12吋光罩試產線，為2033年12吋High NA微影系統導入先進製程量產奠定基礎。
台積電有意自2030年起，在先進製程量產導入High NA技術，隨AI推升電晶體架構複雜度，預期未來需要High NA EUV曝光的光罩層數將持續增加。
三星電子（Samsung Electronics）、英特爾晶圓代工（Intel Foundry）也公布最新布局。三星加入12吋光罩倡議，並計畫2028年前率先將High NA導入DRAM量產；英特爾則已將High NA應用於Intel 18A及Panther Lake部分製程，三大先進製程廠商使用High NA EUV路徑更加明確。
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