從26日股價表現來看，汎銓股價直奔漲停、報在474元，光焱科技則是跌停、報在747元，至於光焱科技的宜特，股價重挫5.52%、報在137元。
高光譜技術反擊專利爭議 光焱：與汎銓方案本質不同、無侵權疑慮
光焱科技指出，雙方在檢測技術世代上存在明顯差異。汎銓所主張之專利，係以傳統「金相顯微鏡」進行光損量測；光焱則採用次世代「高光譜成像技術感測模組」，可整合於探針台與電測設備中，直接進行矽光子光學檢測。公司強調，光損檢測僅為其多功能檢測模組的一部分應用，技術路徑與傳統顯微鏡方案截然不同，相關專利主張難以成立。
針對汎銓宣稱專利曾歷經17項舉發仍維持有效，光焱表示，檢視公開資料後發現，舉發未成立主因在於當時提出的對比技術屬更先進方案，與傳統金相顯微鏡技術「無關」，因此未被採納。此結果反而證明該專利僅限於特定技術範疇，並不涵蓋光焱所採用的高光譜成像系統，兩者技術本質不同，自然不構成侵權。
光焱進一步指出，專利制度保障的是具體技術實施方式，而非壟斷「光損檢測」此一應用概念，不能將所有具備相關功能的設備一概視為侵權。若依此邏輯，近期包括Zeiss等國際光學大廠投入光損檢測領域，亦將面臨相同爭議，顯示相關說法在技術與法律邏輯上均有待商榷。
光焱強調，公司深耕光學與光電子晶片檢測逾16年，核心產品皆為自主研發，並高度重視智慧財產權。面對外界指控，公司營運與出貨均維持正常，財務與業務未受影響，後續亦將配合法律程序積極應對，以維護公司與客戶權益。
提告求償2億元 汎銓強調專利權益捍衛、交由法院判定侵權爭議
汎銓針對光焱科技於3月26日發布之聲明再度回應，公司已於3月25日正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，主張光焱科技侵害其持有之中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並依法請求停止侵權行為及2億元損害賠償。目前全案已進入司法程序，相關事實與法律爭點將由法院審理並作出最終判斷。
汎銓表示，公司長期深耕半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測領域，相關核心技術來自多年研發投入。「光損偵測裝置」為關鍵技術之一，已在台灣、日本及美國取得發明專利，並實際應用於矽光子元件的光損量測與定位分析，在高速光通訊、AI與光電整合應用中具備重要技術價值。
對於光焱科技的相關說法，汎銓指出，基於尊重司法程序原則，不針對個別技術爭議進行逐一回應。雙方技術差異、是否構成專利侵權及專利權利範圍認定，均屬專業法律與技術判斷，應回歸法院依具體事證審理，並呼籲相關當事人以誠實態度面對司法程序。
汎銓強調，此次提起訴訟係為維護自主研發成果與智慧財產權，亦是對產業價值及股東權益負責的重要行動。公司將持續透過合法途徑保障技術成果，並重申後續將尊重法院審理結果，依法捍衛公司及利害關係人之權益。
此外，汎銓董事長柳紀綸也說明，矽光子主要使用紅外線波段，最常用為1310奈米 和 1550奈米，所以要偵測這波段的漏光一定要用能感測這波長的偵測器，也就是IR detector(IR CCD)。用IR CCD裝置量測矽光子，就是汎銓的專利範圍。
柳紀綸呼籲光焱積極面對法律問題，若無法收光就無所謂的新技術舊技術問題，與侵權專利爭議無關。
宜特發聲明反擊訴訟延燒 強調未收通知、批同業干擾矽光子市場
宜特（3289）也發聲明回應，針對同業近期對合作夥伴光焱科技提起專利侵權訴訟，並指稱將進一步提告，公司高度尊重智慧財產權，但截至目前尚未收到任何相關訴訟文件。對於同業在司法程序尚未展開前，透過媒體釋放訊息影響市場運作，宜特表達遺憾，並嚴正譴責此類干擾產業秩序與創新的行為。
宜特表示，公司為台灣「AI新十大建設」與矽光子國家隊成員之一，曾參與國科會主辦的矽光子CPO-AI生態鏈座談會，並展示在AI運算架構下的驗證能力。公司定位為「電子產業醫學中心」，透過整合電性測試、光學診斷與可靠度驗證，建立「懂電也懂光」的一站式服務，協助產業從研發邁向量產。
宜特強調，現階段產業關鍵在於解決「光損定位」與「定量數據」取得困難問題。由於矽光子尚缺乏統一標準，公司投入資源與客戶共同建立可量產、可複製且具可信度的驗證方法，並非單一檢測設備即可達成。相關解決方案結合公司逾30年電性測試經驗與光學診斷技術，並運用廠內大量量測與可靠度設備，確保數據精準與量產穩定性。
宜特指出，合作夥伴已累積多項光量測核心專利，產業應共同提升良率與技術標準，而非透過單一設備專利擴大解釋權利範圍，影響矽光子與CPO市場發展，進而削弱台灣供應鏈競爭力。公司強調，目前營運與專案執行均維持正常，財務與業務未受影響。
針對任何損及公司商譽或影響投資人信心的不實言論，宜特表示不排除採取法律行動求償，以維護股東與客戶權益。
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